据报道,三星电子今日(6日)宣布,三星高级技术学院(SAIT)的研究人员与蔚山国家科学技术学院(UNIST)、剑桥大学两家高校合作,发现了一种名为非晶态氮化硼(a-BN)的新材料,此项研究可能加速下一代半导体材料的问世。
业内人士称,非晶态氮化硼有望广泛应用于DRAM和NAND解决方案,特别是大规模服务器的下一代内存解决方案。
相关概念股主要有天奈科技(行情688116,诊股)、奥克股份(行情300082,诊股)等。
据报道,三星电子今日(6日)宣布,三星高级技术学院(SAIT)的研究人员与蔚山国家科学技术学院(UNIST)、剑桥大学两家高校合作,发现了一种名为非晶态氮化硼(a-BN)的新材料,此项研究可能加速下一代半导体材料的问世。
业内人士称,非晶态氮化硼有望广泛应用于DRAM和NAND解决方案,特别是大规模服务器的下一代内存解决方案。
相关概念股主要有天奈科技(行情688116,诊股)、奥克股份(行情300082,诊股)等。
加载全文